株テーマ:半導体露光装置の関連銘柄

半導体露光装置は、半導体デバイスの製造で最重要な工程となる、原画となる回路パターンを転写するリソグラフィ工程の主要部分を占める。キャノンは、KrFスキャナー/ステッパー、i線ステッパー 前工程向け、i線ステッパー 後工程向けなどの露光装置を手掛けている。

オハラは、半導体露光装置向けやスマホ筐体などの特殊ガラスが中核のエレクトロニクス事業が収益柱になる。ウシオ電機は、産業用ランプで世界首位。半導体露光装置は微細化最終世代とされるEUV(極端紫外光)露光機開発は脱落したが、マスク検査装置用にEUV光源を開発した。

1 半導体露光装置 メーカーシェアと価格情報

半導体露光装置 メーカーシェアと価格情報

※2024年4月20日時点の情報に基づいています。

種類 メーカー シェア 価格
高NA(開口数)EUV露光装置 ASML(オランダ) 100% 500億円
ArF液浸 ASML(オランダ) 95% 60億~100億円
ArFドライ ASML(オランダ) 75% 30億~50億円
KrF ASML(オランダ) 75% 10億~20億円
i線 キャノン 65% 5億~10億円
露光装置シェア

露光装置シェア

種類 メーカー シェア
EUV ASML (オランダ) 100%
その他 0%
ArF液浸 ASML (オランダ) 95%
ニコン 5%
その他 0%
KrF ASML (オランダ) 75%
キャノン 22%
ニコン 3%
i線 キャノン 65%
ASML (オランダ) 21%
ニコン 14%

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株式情報更新 (4月24日)


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