株テーマ：半導体露光装置の関連銘柄
半導体露光装置は、半導体デバイスの製造で最重要な工程となる、原画となる回路パターンを転写するリソグラフィ工程の主要部分を占める。キャノンは、KrFスキャナー／ステッパー、i線ステッパー 前工程向け、i線ステッパー 後工程向けなどの露光装置を手掛けている。
オハラは、半導体露光装置向けやスマホ筐体などの特殊ガラスが中核のエレクトロニクス事業が収益柱になる。ウシオ電機は、産業用ランプで世界首位。半導体露光装置は微細化最終世代とされるＥＵＶ（極端紫外光）露光機開発は脱落したが、マスク検査装置用にＥＵＶ光源を開発した。
EUV露光装置の価格は200億〜300億円、ArF液浸露光装置は60億〜100億円、高NA（開口数）EUV露光装置は500億円に近いと見られている。
50層を露光する最先端半導体では、EUV露光を使うのは2〜3層、ArF液浸露光を使うのは最大10層を使用するという。キヤノンはi線露光装置で8割、KrF露光装置で3割弱の台数シェアがあるようだ。後工程（パッケージング工程）向けのi線露光装置では、市場を独占しているという。
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半導体露光装置 メーカーシェアと価格情報
半導体露光装置 メーカーシェアと価格情報
※2024年4月20日時点の情報に基づいています。
| 種類 |
メーカー |
シェア |
価格 |
| 高NA（開口数）EUV露光装置 |
ASML（オランダ） |
100% |
500億円 |
| ArF液浸 |
ASML（オランダ） |
95% |
60億～100億円 |
| ArFドライ |
ASML（オランダ） |
75% |
30億～50億円 |
| KrF |
ASML（オランダ） |
75% |
10億～20億円 |
| i線 |
キャノン |
65% |
5億～10億円 |
露光装置シェア
露光装置シェア
| 種類 |
メーカー |
シェア |
| EUV |
ASML (オランダ) |
100% |
| その他 |
0% |
| ArF液浸 |
ASML (オランダ) |
95% |
| ニコン |
5% |
| その他 |
0% |
| KrF |
ASML (オランダ) |
75% |
| キャノン |
22% |
| ニコン |
3% |
| i線 |
キャノン |
65% |
| ASML (オランダ) |
21% |
| ニコン |
14% |
