株テーマ:フォトマスクの関連銘柄

フォトマスクは、透明なガラス基板に微細な回路パターンをエッチングしたもので、次世代露光技術のEUVが実用化されることも、フォトマスクメーカーや材料業界を活気づけている。半導体などの電子デバイスや写真のネガフィルムにあたり、電子回路を形成する基盤に転写する。単一製品を大量生産するメモリーと違って、フォトマスクはロジック分野への依存度が高く、メモリー不振の影響を受けにくい。印刷技術を応用した微細加工技術で凸版印刷や大日本印刷が強い。

レーザーテックは、EUVマスク欠陥検査装置の受注が好調に推移。ホロンは、EUV露光装置を半導体メーカーが導入する恩恵を受ける。主力製品の「Zシリーズ」マスクCD-SEM機、「電子顕微鏡カラム」の導入増加が期待できそうだ。エスケーエレクトロニクスは、フォトマスク専業で、大型液晶パネルに強く、中国ユーザーの引き合いも衰えていない。

凸版印刷は、2021年にも最先端の回路線幅5ナノメートルの半導体製造に対応したフォトマスクの量産体制を整備。2023年には3ナノメートル向けの製品化を目指す。

フォトマスクに電子ビームでパターンを描画する装置では、日本電子や東芝傘下のニューフレアテクノロジーが手掛ける。

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株式情報更新 (3月4日)


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