7912 大日本印刷
| 2026年2月20日 株価 | |||
|---|---|---|---|
|
始値
3,048円
|
高値
3,096円
|
安値
3,040円
|
終値
3,092円
|
|
出来高
1,458,100株
|
|||

| オシレータ分析 | トレンド分析 | 予想レンジ | |
|---|---|---|---|
![]() |
![]() |
予想高値
3,200円
|
予想安値
3,000円
|
-
- フィルム型アンテナ
- デジタルキー
- DX銘柄2020(東証・経産省)
- EUV半導体注目株
- EUVフォトマスク
- EUVマスクブランクス
- ワイヤレス給電
- ICタグ
- RFID
- XR
- AR・VR
- HMD
- ドバイ万博
- 液晶カラーフィルター
- 食品ロス(フードロス)
- 民間出資企業
- FTSEグリーンチップ35
- 不妊治療
- チューリング
- 昆虫食
- Webtoon
- 電子書籍(マンガアプリ)
- クラウドファンディング
- エリーパワー
- TBM(LIMEX・ライメックス)
- LIBTEC
- 空飛ぶクルマ
- 色素増感太陽電池
- 太陽電池保護材(バックシート)
- エリーパワー
- デジタルサイネージ
- 電子ペーパー
- 東京五輪オフィシャルパートナー
- オンライン接客・商談
- 1ナノ半導体
- IMEC
- ガラスコア基板
- 三次元半導体
- ナノインプリント
- 半導体パッケージ
- フォトマスク
- インターポーザー
- 「JOINT2」
- 先端パッケージング
- 情報銀行
- フィンテック協会
- 水道管(ステンレス管・塩ビ管)
- インクジェット法
- ディスプレー保護フィルム
- 2ナノプロセス
- 次世代半導体用フォトマスク
オシレータ分析

オシレータ系指標は、相場の強弱動向を表した指標で、日々の市場の値動きから、株価の水準とは無関係に売り・買いを探ります。
売買シグナルは 内にまたはで表示されます。
| RSI | 9日 66.73 | RCI |
9日 -46.67 13日 50 |
|---|---|---|---|
| ボリンジャーバンド |
+2σ 3110.86 -2σ 2532.22 |
ストキャススロー |
S%D 86.23 %D 77.79 |
| ストキャスファースト |
%K 51.61 %D 77.79 |
ボリュームレシオ | 14日 77.87 |
| 移動平均乖離率 | 25日 5.76 | サイコロジカル | 12日 75 |
トレンド分析

トレンド系指標は、相場の方向性・強さを判断する指標で、中長期の分析・予測に使われます。トレンド転換時は内にまたはで表示されます。現在のトレンドはまたはで表示されます。
| DMI | MACD | ゴールデンクロス | |||
|---|---|---|---|---|---|
| 5日移動平均(位置) | 5日移動平均(向き) | 25日移動平均(位置) | |||
| 25日移動平均(向き) | パラボリック |
チャート分析

酒田五法や一目均衡表などローソク足変化シグナル(当日示現のみ)は、内にまたはで表示されます。独自のHAL指数で高値圏、安値圏を判定し、実戦的なシグナルです。
| 十字足 | はらみ十字 | 上ひげ・下ひげ |
|---|---|---|
| 出会い線 | 三点童子 | 三点童子(安値・高値) |
| 包み足 | 赤三兵・黒三兵 | 並び赤・並び黒 |
| 明けの明星・宵の明星 | 三役好転・三役逆転 | 雲上抜け・下抜け |
| 転換線上抜け・下抜け | 遅行線上抜け・下抜け | 五陽連・五陰連 |



7912 大日本印刷の投資戦略
7912 大日本印刷の株価は、オシレーター系指標では中立圏で推移しています。トレンド系指標は上昇トレンド継続中で、押し目買いゾーンです。オシレータ系指標は「買われ過ぎ」、「売られ過ぎ」を示すテクニカル指標の総称です。一定の範囲で動くため振り子系指標とも呼ばれます。RSIやストキャスティクスが代表的です。トレンドフォロー系指標は、株価が上がり続けると指標も上がり、下がり続けると指標も下がるタイプです。移動平均やMACDが代表的です。
7912 大日本印刷のテクニカル売買シグナル
株式売買シグナルが点灯しています。このページ下部のオシレーター分析、トレンド分析、チャート分析でご確認ください。オシレーター分析、チャート分析では変化点をキャッチした日に売り買いサインが点灯、トレンド分析では現在の方向を矢印で示します。
7912 大日本印刷の関連ニュース
(7912)大日本印刷は、ナノインプリントリソグラフィ(NIL)向けに回路線幅10nmのテンプレートを開発した。1.4nm世代相当のロジック半導体にも対応でき、スマートフォンやデータセンター向けの先端チップ需要の拡大を背景に、EUV露光に依存しない生産方式の選択肢として注目される。NILは露光装置を使用せずテンプレートを基板に直接転写するため、EUVに比べて設備負担や電力消費が小さく、コスト削減と環境負荷軽減が可能となる。
DNPは2003年からNIL用テンプレート技術を蓄積しており、今回の10nm微細化は、自社のフォトマスク製造技術やウエハ加工技術を応用した成果だ。Self-Aligned Double Patterning(SADP)によりパターン密度を2倍にすることで、高精度な微細構造形成を実現した。これにより、従来はEUVが必須とされてきた最先端ロジック半導体領域でも、NIL適用の可能性が広がる。
NILは露光工程の電力消費量を約10分の1に抑えられるとされ、EUV設備を持たない半導体メーカーやコスト圧力の強いファウンドリにとって魅力的な加工手段となり得る。DNPは既に顧客との評価作業を開始しており、2027年の量産開始を目指す方針だ。さらに2030年度にはNIL関連事業で40億円の売上増加を掲げ、テンプレート開発の高度化と生産能力の増強を進める。
最先端半導体では微細化と電力効率が競争軸となるなか、NILは「EUV一強」の構図に変化をもたらす技術として位置づけられつつある。ただし、量産歩留まりやロジック用途での成熟度といった課題も残る。今後は採用企業の広がりや量産適用の実績が焦点となる。大日本印刷の今回の取り組みは、次世代半導体製造プロセスの選択肢を拡大する重要な一歩だ。
同社は、エレクトロニクス部門を成長ドライバーと位置付け、フォトマスク分野での積極的な投資を継続する。海外勢との競争が激化する中、マルチビーム描画装置やEUVマスク検査装置の増設を進め、顧客ニーズに応える高付加価値提案を強化する方針だ。
最新の2026年3月期連結業績予想では、売上高1兆5,000億円(前期比2.9%増)、営業利益940億円(同0.4%増)、経常利益1,050億円(同9.4%減)、最終利益900億円(同18.7%減)を見込む。前期までの増収基調は維持するが、利益面では減益となる見通しだ。
水素はクリーンエネルギーとして期待される一方で、漏洩時に爆発の危険があるため、検知技術の向上が求められている。従来の水素センサーは電源を必要とするものが多いが、今回の技術はRFIDを利用することで、電源不要で遠隔から水素の漏れを検知できる点が特長だ。
このシステムは、水素ステーションや燃料電池を搭載した施設など、幅広い用途での活用が想定されている。大日本印刷は、今後さらなる精度向上や実証実験を進め、2025年以降の実用化を目指す。
水素エネルギーは、燃焼時にCO?を排出しないクリーンエネルギーとして注目を集めている。日本国内の水素エネルギー活用機器・システムの市場規模は、2030年度に6,633億円に達すると予測されている。
大日本印刷は、本システムを水素関連施設の建設企業やシステムベンダー、水素エネルギー販売企業などに提供し、2030年度までに累計30億円の売上を目指すとしている。
https://www.asset-alive.com/thema/?mode=show&tid=7912