6920 レーザーテック
| 2024年7月26日 株価 | |||
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始値
26,505円
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高値
26,535円
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安値
25,500円
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終値
25,640円
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出来高
6,142,300株
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| オシレータ分析 | トレンド分析 | 予想レンジ | |
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予想高値
32,000円
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予想安値
19,000円
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| みんなの予想 | |||
|---|---|---|---|
| 上がる 80% |
下がる 20% |
平均予想株価 29,400円 |
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この銘柄の株価は |
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オシレータ分析
オシレータ系指標は、相場の強弱動向を表した指標で、日々の市場の値動きから、株価の水準とは無関係に売り・買いを探ります。
売買シグナルは 内にまたはで表示されます。
| RSI | 9日 0 | RCI |
9日 -100 13日 -99.45 |
|---|---|---|---|
| ボリンジャーバンド |
+2σ 45858.68 -2σ 27140.02 |
ストキャススロー |
S%D 4.23 %D 0 |
| ストキャスファースト |
%K 0 %D 0 |
ボリュームレシオ | 14日 12.33 |
| 移動平均乖離率 | 25日 -21.7 | サイコロジカル | 12日 8.33 |
トレンド分析
トレンド系指標は、相場の方向性・強さを判断する指標で、中長期の分析・予測に使われます。トレンド転換時は内にまたはで表示されます。現在のトレンドはまたはで表示されます。
| DMI | MACD | ゴールデンクロス | |||
|---|---|---|---|---|---|
| 5日移動平均（位置） | 5日移動平均（向き） | 25日移動平均（位置） | |||
| 25日移動平均（向き） | パラボリック |
チャート分析
酒田五法や一目均衡表などローソク足変化シグナル(当日示現のみ)は、内にまたはで表示されます。独自のHAL指数で高値圏、安値圏を判定し、実戦的なシグナルです。
| 十字足 | はらみ十字 | 上ひげ・下ひげ |
|---|---|---|
| 出会い線 | 三点童子 | 三点童子（安値・高値） |
| 包み足 | 赤三兵・黒三兵 | 並び赤・並び黒 |
| 明けの明星・宵の明星 | 三役好転・三役逆転 | 雲上抜け・下抜け |
| 転換線上抜け・下抜け | 遅行線上抜け・下抜け | 五陽連・五陰連 |
6920 レーザーテックの投資戦略
6920 レーザーテックの株価は、オシレーター系指標では割安圏で推移しています。トレンド系指標は下降トレンド継続中で、様子見ゾーンです。オシレータ系指標は「買われ過ぎ」、「売られ過ぎ」を示すテクニカル指標の総称です。一定の範囲で動くため振り子系指標とも呼ばれます。RSIやストキャスティクスが代表的です。トレンドフォロー系指標は、株価が上がり続けると指標も上がり、下がり続けると指標も下がるタイプです。移動平均やMACDが代表的です。
6920 レーザーテックのテクニカル売買シグナル
株式売買シグナルが点灯しています。このページ下部のオシレーター分析、トレンド分析、チャート分析でご確認ください。オシレーター分析、チャート分析では変化点をキャッチした日に売り買いサインが点灯、トレンド分析では現在の方向を矢印で示します。
6920 レーザーテックの関連ニュース
生成ＡＩ向けＨＢＭ（広帯域メモリ）関連、世界的なＥＶシフトや脱炭素化の進展を背景としたパワー半導体関連には堅調な投資が継続され、最先端のＥＵＶ（極端紫外線）リソグラフィを用いた半導体製造能力の増強に関わる投資にも回復の兆しが見られる。
通期計画の営業利益670億円に対する進捗率は87.6％に達している。売上営業利益率は38.4％から42.4％に上昇した。
2ナノ以降はEUV露光装置では次世代の以下ハイNA機の生産ラインへの設置台数が増加すると予想される。「Actis A300」は、新型光源「URASHIMA」を搭載した高性能機だが、すでに複数台の受注を得ているようだ。
「Actis A300」の特徴は、ペリクル付きマスクへも対応することだ。3ナノまではペリクルを使わないケースもあったが、2ナノではわずかなごみでも付着させるわけにもいかず、ペリクルを使わざるを得ないと見られている。
ASMLは、次世代装置の投入を予定しているため、（4183）三井化学は50億～90億円を投じて工場を増設し、25～26年に従来品より性能を高めた製品を量産する。このタイミングにあわせて、レーザーテックの受注も回復すると見て良さそうだ。
EUV露光装置では、次世代EUV（極端紫外線）リソグラフィ装置による先端半導体プロセス技術開発のR＆D（研究開発）ファブを、韓国に設立する。ASMLとサムスン電子が1兆ウォン（約7億7500万ドル）を共同出資する見込みだ。
サムスン電子は、2022年6月に3ナノプロセスの生産を開始し、2025年には2ナノプロセスの量産を、2027年には1.4ナノプロセスの量産を開始する計画を持っている。TSMCは2ナノプロセスの量産を2025年と予定し、1.4ナノプロセスは2027年以降となりそうだ。
いずれにしても2024年には次世代EUVリソグラフィ装置をASMLから調達せざるを得ない。そして検査装置はレーザーテック以外に考えられず、快進撃は続く。心配なのは受注に対して生産が追いつくかの問題と見られる。
EUVパターンマスク欠陥検査装置ACTISシリーズでは、露光装置と同じ波長の光で検査するアクティニック検査を可能としている。