株テーマ:EUVマスクブランクスの関連銘柄

・EUVマスクブランクスは、フォトマスク材料で、低膨張ガラス基板の表面に複数の組成から成る膜を積層したもの
HOYA、信越化学工業、AGC

・EUVフォトマスクは、EUVマスクブランクスの表面に半導体チップの回路原版を形成したもので、表面に装着する薄い保護膜が
ベクレル
凸版印刷、大日本印刷、三井化学


住友化学は、EUV(極紫外線)に対応したマスクブランクスは、ガラス材料からコーティングの一貫生産を強みに拡大し、売り上げ規模は200億円に迫っている。2017年にEUVマスクブランクスの生産を開始し、2025年には売上高400億円以上、シェア50%を目指している。

HOYAもEUVマスクブランクスがマスクブランクスの販売の3割に高まっている。AGCは、EUV露光用フォトマスクブランクス供給体制を大幅増強し、2022年に生産を開始、2025年には売上高40億円以上、シェア50%を目指している。EUV露光用フォトマスクブランクスは、表面の平坦度や異物などの欠陥に対する基準が厳しく、製造できるのはHOYAとAGCなどに限られると見られている。AGCは25年に売上高400億円を目指している。



大日本印刷は、マスク描画装置を利用し、半導体製造の最先端プロセスであるEUVリソグラフィに対応する、5ナノメートル相当のフォトマスク製造プロセスを開発した。現在の半導体製造では、フォトリソグラフィ用の光源に、波長が193nmのエキシマレーザーを使用するが、EUVリソグラフィでは波長が13.5nmのEUV(極端紫外線)を光源とするため、微細化が大幅に進んでいる。大日本印刷は2023年に年間60億円の売上げを目指す。

ウシオ電機は、EUVリソグラフィマスク検査用光源を量産プロセス向けとして供給している。光源事業をブランド化し、「TinPhoenix(ティンフェニックス)」としてグローバル展開する。光源にはレーザーアシストプラズマ放電方式を採用している。

日本電子は、フォトマスク製造用電子ビーム装置(マスクライター)を強化する。マルチビーム機によるEUV(極紫外線)フォトマスク需要に対応している。世界初の量産型マルチビームマスクライタを開発したオーストリアのIMS Nanofabricationは日本電子と長期提携契約を締結している。

芝浦メカトロニクスは、EUV対応のフォトマスク製造用エッチング装置を手掛ける。

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株式情報更新 (5月23日)


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