株テーマ:GaN(窒化ガリウム)半導体の関連銘柄

GaN(窒化ガリウム)半導体関連株

シリコン半導体より電力ロスを十分の一に低減し、ハイブリッドカーに適用した場合、走行距離を1割延ばす可能性がある。シリコン半導体をハイブリッド向けに供給する富士電機HDはGaN(窒化ガリウム)の量産化技術を持つ古河電気工業と組み、新型半導体の開発を目指す。住友電気工業は5G基地局用アンテナ部品にシリコンではなく窒化ガリウムを採用しており、5G基地局向けに需要が急増している。Mipoxは次世代パワー素子向け化合物など微細表面加工の液体研磨剤大手。新電元工業は、大容量で高速安定動作を可能にするGaNパワーモジュールを開発。GaN基板では、住友電気工業、三菱化学、サイオクス(住友化学子会社)の寡占状態。

ロームは、パワーデバイスの世界的リーダー「Ganシステムズ社」と2018年6月に協業を開始。両社のパッケージング技術を用いてGanデバイスに最適な製品を共同開発し、共同生産も視野に入れている。

信越化学は半導体基板に使うシリコンウエハーの世界最大手で、米国の素材メーカのクロミス開発した素材を使用し、GaN(窒化ガリウム)を使う製法で、従来の4倍の面積にウエハーを大型化できるという。GaN基板は次世代半導体材料として期待が高く、5Gで使う高周波の電波にも対応出来るため、基地局や電子部品への採用を目指す。サンプル出荷は2020年中としている。


住友電工は5Gを進化させた携帯電話通信網「5G+」向けに、GaN(窒化ガリウム)デバイスの次世代品を10月にも投入する。既に5G向けでは世界シェア7割を占めているが、GaNデバイスはSi(シリコン)デバイスよりも高い周波数帯域で使われるため、通信網の高度化でさらに需要が増加する見込み。

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