半導体業界の先行きは見方が分かれているが、フォトマスク業界だけは好調のようだ。フォトマスクは、透明なガラス基板に微細な回路パターンをエッチングしたもので、次世代露光技術のＥＵＶが実用化されることも、フォトマスクメーカーや材料業界を活気づけている。半導体などの電子デバイスや写真のネガフィルムに当たり、電子回路を形成する基板に転写する。印刷技術を応用した微細加工技術で(7911)凸版印刷、(7912)大日本印刷が強い。

単一製品を大量生産するメモリーと違って、フォトマスクはロジック分野への依存度が高く、メモリー不振の影響を受けにくい。(6256)ニューフレアテクノロジーは、フォトマスクに回路パターンを描画する電子ビームマスク描画装置で、世界シェアは首位。今期も増収増益で株価も回復基調を続けている。(6677)エスケーエレクトロニクスはフォトマスク専業で、大型液晶パネルに強く、中国ユーザーの引き合いも衰えていない。(6920)レーザーテックもマスク検査装置が下期も想定を超えており、ＥＵＶ向け検査装置の需要拡大で、株価は史上最高値となっている。

(7748)ホロンもＥＵＶ（極端紫外線）露光装置を半導体メーカーが導入する恩恵を受ける。主力製品の「Ｚシリーズ」マスクＣＤ－ＳＥＭ機、「電子顕微鏡カラム」の納入増加が期待出来そうだ。