株テーマ:EUVレジストの関連銘柄

EUVレジスト関連株

デジタル製品のの高性能・小型化のために、半導体回路の微細化がある。フォトレジストは、回路を形成する感光で、化学メーカーが優位。次世代向けに回路形成用素材を開発し、ナノ(10億分の1)レベルの競争となっている。EUV(極端紫外線)の露光技術がオランダのASMLによって確立され、台湾のTSMCと韓国サムスン電子が量産化に向けて巨大な投資を行っている。

フォトレジストでは(4186)東京応化工業と(4185)JSRが世界トップシェアを争う。(4063)信越化学工業、(4005)住友化学、(4901)富士フイルム HDの上位5社で、世界シェアの9割を占めている。転写する回路パターンの複雑化・微細化のために高い解像度が求められ、フォトレジストに不純物が入れば、転写回路に傷がつくため、参入障壁は非常に高い。フォトレジスト関連の製造能力増強では、(4041)日本曹達、(4043)トクヤマも注目される。

韓国への半導体材料の輸出制限3品目では、レジストの市場規模が大きく、最先端のEUVレジストの輸出は少量しか許可されていない模様。東京応化工業はトップメーカーで、韓国内に製造工場を持つことから、本命株と言えそうだ。

・フォトリソグラフィプロセスでの露光光源の変遷
g線(波長436 nm)→i線(波長365 nm)→KrF(波長248 nm)→ArF(波長193 nm)→EUV(波長13.5 nm) ※nm(ナノ)は10億分の1メートルで、光源の波長が短いほど、微細な回路を形成できる。日本は2002年から経産省とNEDOが主導し、極端紫外線露光システム技術開発機構を設立していたが、ニコンやキャノンは露光装置開発を断念した。周辺技術の蓄積は進んでいる。

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