株テーマ:パワー半導体 Ga2O3(酸化ガリウム)半導体の関連銘柄

Ga2O3(酸化ガリウム)半導体

シリコン半導体の性能を超えるパワー半導体では、高耐圧のSiC(炭化ケイ素)半導体、高周波のGaN(窒化ガリウム)半導体が実用化されている。それに続く第3のパワー半導体として、Ga2O3(酸化ガリウム)半導体が注目されている。

タムラ製作所出身の倉又社長がNICT(情報通信機構)、東京農工大と酸化ガリウムの研究開発で立ち上げたノベルクリスタルテクノロジーや京大発のベンチャーであるFLOSFIA(フロスフィア)が開発のしのぎを削っている。ノベルクリスタルにはタムラ製作所が40%出資し、AGCやTDKも出資している。酸化ガリウムウェハーの量産に成功し、酸化ガリウム製パワー半導体を2021年から量産するする方針。

FLOSFIAにはデンソー、三菱重工業、JSRが出資し、(5384)フジミインコーポレーテッドや(5706)三井金属鉱業がベンチャーキャピタルを通じて出資している。酸化ガリウム製パワー半導体を電動車のインバーターなど車載用に応用する共同研究を始めている。酸化ガリウムはシリコンの3400分の1、炭化ケイ素の10分の1の低損失化で、変換効率が良い次世代パワーデバイスがエネルギー問題を改善するというわけだ。(7433)伯東、(6973)協栄産業とは国内販売代理店契約を結んでいる。

パワー半導体は、交流を直流に変換、電圧を低下させ、モーター駆動や充電、マイコンやLSIを動作させる電力制御用半導体。プロセッサーやメモリなど普通の半導体材料がSi(シリコン)で、パワー半導体ではSiの他にSiC(炭化ケイ素)、GaN(窒化ガリウム)が用いられる。将来的にはGa2O3(酸化ガリウム)も期待されている。

現在主流のシリコン半導体では、これ以上の効率化は困難とされ、シリコンカーバイドや窒化ガリウムを使ったワイドバンドギャップ半導体の開発が進められている。パソコンなどの電源向けから、ハイブリッドカーへの応用、さらには電力系統で変換器素子として利用した場合、電力ロスが百分の一になるなど、利用価値は極めて大きい。

パワー半導体進化の系図
①SiC(炭化ケイ素)半導体
②GaN(窒化ガリウム)半導体
③Ga2O3(酸化ガリウム)半導体

Ga2O3(酸化ガリウム)半導体 関連銘柄

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