ＳＣＲＥＥＮセミコンダクターソリューションズは、ＩＢＭと次世代デバイスにおける洗浄プロセス開発を目指す共同開発契約を締結した。ＥＵＶ露光装置の導入により、歩留まり向上を目的としたウエハー裏面洗浄や、ウエハー外周部の薄膜や異物を除去する工程ベベル洗浄などの洗浄工程数が増加している。ＳＣＲＥＥＮ ＨＤは、半導体業界初のベベル洗浄技術を搭載したウエハー洗浄装置を開発した経緯がある。微細化・積層化の進展も高度な洗浄プロセスを必要としている。

装置稼働時における省エネルギー化、化学薬品の使用量や廃液物の削減、半導体の製造工程における歩留り向上の取り組みは、サステナビリティの観点からも重要で、洗浄プロセスや量産装置の開発を加速させる。