2ナノ対応のマルチ電子ビームマスク描画装置開発を完了していると見られる。多数の電子ビームを使うことで、複雑かつ微細なパターンを短時間で描くことができる装置で、半導体チップの微細化においてコアになる技術として重視されている。

日本電子のマルチビーム描画装置は26万本のビームを一気に照射することができるため、一気に対象物を加工できるので、加工に要する時間を大幅に短縮できる。露光装置に使われるマスクには、チップに投影するための微細なパターンが刻み込まれており、その細かさが半導体チップの複雑さを左右する。

トップメーカーはオーストリアの装置メーカーであるIMSで、マルチビーム描画装置の市場で90％を超えるシェアを持つが、日本電子と提携しており、加工対象を乗せるステージの位置をナノレベルで制御する機構などに日本電子の技術が活用されている。

2ナノプロセスを2025年にリリースすることを計画しているTSMCは、IMSに約10％出資している。EUV露光装置のパーツ製造においてマルチビーム描画装置は重要なツールとなっている。