半導体開発子会社のノベルクリスタルテクノロジーが、ＮＥＤＯの「戦略的省エネルギー技術革新プログラム」において、酸化ガリウムウエハの欠陥を10分の1に低減することに成功した。今年3月には、酸化ガリウムをハライド気相成長法によって6インチウエハ上に成膜することに世界で初めて成功しており、今回は佐賀大学と共同で、エピ成膜条件を改良することで改良にこぎ着けた。

酸化ガリウム量産成膜装置の開発を大きく進展させ、酸化ガリウムエピウエハの大口径・低コスト化の実現につながる。ＥＶなどの100Ａ級パワーデバイス向けの酸化ガリウム半導体の開発に向けて大きく前進した。量産技術を確立した後、2024年度に量産装置の製品化を目指す。