株テーマ:EUV半導体本格化 EUV半導体注目株=今週のベスト5の関連銘柄

半導体向けの液体フッ化水素がステラケミファから韓国向けの輸出が許可されたと韓国メディアが報じた。EUV最先端半導体の生産に使う高純度液体と見られ、韓国サムスン電子、SKハイニックス向けとされている。ステラ ケミファは韓国半導体向け輸出が激減し、4-9月純利益は58%減の6億3000万円まで落ち込んでいた。EUV関連銘柄に買いが波及し、レーザーテック、東京エレクトロン、ホロンが大幅高。HOYA、AGCも高い。

株式市場で注目されるEUV半導体関連銘柄一覧。半導体ウェーハの主流300mmではSUMCOや信越化学工業などが増産投資。半導体検査装置ではアドバンテストがDRAM検査装置で首位。半導体製造装置では東京エレクトロンが世界4位。フォトレジストでは富士フイルムHDなどが注目。エッチングガス(高純度フッ化水素)では昭和電工などが注目。フォトマスクブランクスはHOYAと信越化学工業の寡占状態。レーザーテックはEUVマスクブランクスの欠陥管理と歩留まりの向上に貢献する検査装置を手掛ける。大阪有機化学はArF(フッ化アルゴン)モノマーではトップシェアを誇り、供給力は1.5倍に拡大する。EUV(極端紫外線)用モノマーも試作段階から本格的な量産段階に移行している。

光リソグラフィ技術がEUV(極端紫外線)露光技術に置き換わると10nm以下の回路パターンが形成できるため、量産開始が流目されている。EUV(極端紫外線)半導体の量産開始には、韓国サムスン電子や台湾のTSMC、インテルのほか、韓国のSKハイニックスや米マイクロン・テクノロジーが名乗りを上げる可能性がある。

半導体・半導体製造装置関連株
半導体チップは、半導体回路パターンの微細化で進化する。これまではガラス基板(フォトマスク)に描画された回路パターンをシリコンウェハーに転写するが、理論的な限界値は20nm(ナノメートル)とされる。光リソグラフィ技術がEUV(極端紫外線)露光技術に置き換わると10nm以下の回路パターンが形成できる。スマホの高機能化や自動運転の実現に向けて5G技術向けに半導体微細化競争は熾烈となるが、レーザーテックは検査装置を独占している。EUV(極端紫外線)半導体の量産開始には、韓国サムスン電子や台湾のTSMC、インテルの名前が挙がっていた。今後は韓国のSKハイニックスや米マイクロン・テクノロジーが名乗りを上げる可能性がある。

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